Intel heeft op de A.G. Edwards computer/microprocessor conferentie aangegeven dat ze de verkleining van transistors wil volgen en vanaf 2009 CPU's kan gaan maken op het 32nm productie-proces. Het is niet de eerste keer dat Intel dit heeft bevestigd.
Vanwege de zeer kleine ruimtes tussen transistors en printbanen bij het 32nm proces, is zeer gespecialiseerde apparatuur nodig om dit te kunnen fabriceren, zogenaamde "Extreme UltraViolet lithography tools" (EUV Lithograhpy). Hiermee kan men veel fijnere circuits "tekenen" op de wafers dan momenteel mogelijk is. Maar deze complexe apparatuur moet nog gemaakt worden, en dat kan betekenen dat het productie-proces pas laat in gebruik kan worden genomen.
Begin 2004 stortte Intel 20 miljoen dollar over naar Cymer, één van de grootste makers van felle UV-lichtbronnen die in de half-geleider industrie worden gebruikt, om het onderzoek naar en de ontwikkeling van EUV Lithography.
EUV Lithography zou in 2009 commercieel beschikbaar moeten zijn, maar eerst moeten een paar problemen in de ontwikkeling ervan aangepakt worden. Grote problemen zijn onder andere dat EUV Lithography nog niet sterk genoeg is om gebruikt te worden in de massaproductie. Ook zijn zeer precieze spiegels nodig. Intel zal dus nog hard aan de weg moeten timmeren om EUV Lithography op tijd werkend te hebben. [Erik Vroon]
Bron
Bron: X-Bit labs
