De initiële productie van Intel's 45 nm producten zal in Fab D1D in Oregon plaatsvinden. Daarnaast bouwt Intel nog twee andere productiefaciliteiten, Fab 32 in Chandler Arizona en Fab 28 in Kiryat Gat in Israel, voor respectievelijk drie en drieënhalf miljard Dollar.
Momenteel maakt Fab 11X nog 90 nm chips op 300 mm wafers. 11X startte met zijn productie in oktober 2002, hiermee was Fab 11X de eerste Intel 300 mm productiefaciliteit die grote volumes kon produceren. Bovendien was Fab 11X één van de eerste volledig geautomatiseerde productiefaciliteiten.
Met de introductie van het 45 nm productieprocédé zal Intel ook gebruik gaan maken van een nieuw materiaal, high-k, voor de productie van haar transistors, dit materiaal zal volgens Intel de lekkage van transistors grotendeels tegen gaan en moet de prestaties verhogen. De eerste commerciële 45 nm chips zullen naar verwachting in de tweede helft van 2007 verschijnen.
