Het Nederlandse ASML kan een grote speler genoemd worden waar de ontwikkeling van productieprocedés van afhangt. ASML maakt de machines die ingekocht worden voor de productie van een legio aan verschillende chips. De komende jaren moet de omschakeling komen naar EUV-lithografie, dat zoals de naam zegt gebruikmaakt van Extreme UltraViolet-licht. Een van de zaken waar de toepasbaarheid van afhankelijk is, is de lichtbron die dermate krachtig moet zijn, dat de productie snel genoeg gaat om rendabel te zijn. ASML heeft een mijlpaal bereikt met die lichtbron - en dus in de EUV-techniek.
Al jaren is men bezig met het maken van een lichtbron van 250 watt. Dit houdt in dat er een bepaalde hoeveelheid EUV-fotonen geproduceerd wordt, dat benodigd is om een bepaalde productiesnelheid te realiseren. Dit doel is gesteld op 125 wafers per uur (WPH). Zou de WPH lager uitvallen door een minder krachtige lichtbron, dan zou het niet op de markt te brengen zijn vanwege te hoge kosten. Om aan te geven hoe moeilijk de ontwikkeling van een dergelijke lichtbron is - in vijf jaar tijd is het vermogen opgevoerd van 25 watt naar 250 watt. Op dit moment zijn er prototypes van de 250 watt-lamp, die inmiddels ook gedemonstreerd zijn. In februari lag het aantal wafers per uur op 104. Hoog genoeg om alvast te denken aan het uitleveren van de techniek aan chipbakkers. Dat gebeurt op moment van schrijven ook al.
Deze bedrijven als GlobalFoundries, Intel, Samsung en TSMC zijn afhankelijk van de ASML-machines. Zij stellen continue de omschakeling naar EUV in het vooruitzicht, maar dat wordt steeds uitgesteld doordat de ontwikkeling van de lichtbron langer duurt dan gepland. Daar moet de komende tijd verandering in gaan komen. EUV biedt een aantal voordelen, zoals het mogelijk maken van een nog kleiner chipoppervlak en een eenvoudiger proces. Traditionele lithografie bevat vele stappen alvorens een wafer klaar is, terwijl EUV dat aantal stappen moet beperken, wat weer scheelt in de kosten.
Een chipmachine van ASML.
Bron: EETimes
