Intel heeft het eerste euv-lithografiesysteem geplaatst in de Ierse Fab 34. Daarmee is het de eerste locatie binnen Europa waar massaproductie met extreme ultraviolet plaats zal vinden, en de tweede ter wereld voor Intel. De gigantische machine komt van het Nederlandse ASML en is bedoeld voor het Intel 4-proces.
Het systeem komt vanuit Intel's Technology Development-fabriek in Oregon. Voor het vervoer van de 100.000 onderdelen waren 4 Boeing 747-vrachvliegtuigen en 35 vrachtwagens nodig, te zien in een YouTube-video. De volledige machine reikt van de kelder tot aan het plafond, dat ook nog eens 3 meter verhoogd diende te worden voor de installatie. Ongeveer 100 medewerkers van ASML werken nu aan de installatie van het systeem. Een groep personeel van Intel uit Oregon verhuist naar Ierland om hun kennis over te dragen aan het lokale team.
Het euv-licht met een golflengte van 13,5 nanometer wordt opgewekt door een wolk van microdruppels tin in een vacuüm te beschieten met een laserstraal van 25 kilowatt. Na een reeks weerkaatsingen op spiegels en focussen door lenzen kunnen hiermee elementen zo klein als 13 nanometer geprint worden met een precisie van iets meer dan 1nm. Dit komt overeen met het richten van een laserpointer op een vingertop vanaf de maan.
