Chipfabrikant TSMC heeft verbeterde versies van zijn productieprocedé's op 7 en 5 nanometer aangekondigd. Deze nieuwe varianten moeten betere prestaties voor eindproducten mogelijk maken, terwijl ze volledig compatibel zijn met de 'gewone' productietechnieken op hun respectievelijke groottes.
De nieuwe nodes dragen de naam N7P en N5P, als opvolgers van N7 en N5. Nu is het 5-nanometerproces van TSMC nog niet in volledige productie, maar omdat er al wel vroege ontwerpen voor in de omgang zijn is het toch belangrijk om onderscheid te maken tussen N5 en N5P.
De verbeterde versie van het 7nm-procedé, N7P, moet niet verward worden met N7+. Laatstgenoemde maakt namelijk gebruik van extreme ultraviolet-lithografie, wat niet in N7P wordt toegepast. Wat N7P wel mogelijk maakt is zeven procent betere prestaties bij gelijk stroomverbruik óf tien procent minder stroomverbruik bij gelijke prestaties in vergelijking met N7. N7P is reeds beschikbaar voor TSMC-klanten.
N5P moet op een soortgelijke manier tot 7 procent betere performance geven ten opzichte van N5 bij gelijk stroomverbruik, of een energiebesparing van 15 procent bij identieke prestaties.
Beeld: Wikichip.
De nieuwe toevoegingen maken de line-up van procestechnieken bij TSMC er niet makkelijker op: zo heeft het bedrijf nu drie '7nm'-nodes (N7, N7P en N7+), een 6nm-node (N6) en twee 5nm-varianten (N5 en N5P).
