ASML en Intel hebben hun plannen aangekondigd om halfgeleiderlithografie-technologie naar het volgende niveau te gaan tillen. Het blauwe kamp koopt een Twinscan EXE:5200-systeem dat nog in ontwikkeling is en in 2025 operationeel moet zijn, de eerste node waarvoor de machine gebruikt wordt zal 18A zijn, Intel's benaming voor 1,8 nanometer. Deze komt na 20A dat door Intel in juli 2021 aangekondigd is. Volgens ceo Pat Gelsinger ligt de ontwikkeling voor deze kleine procedés op schema.
Het apparaat moet meer dan 200 wafers per uur kunnen produceren met extreme ultraviolet en een hoge numerieke apertuur van 0,55. Dit is een verbetering ten opzichte van de vorige generatie euv-machines met een numerieke apertuur an 0,33, wat moet zorgen voor hogere resoluties. Samen met de gebruikte golflengte kunnen zo de kleinst mogelijke onderdelen geprint worden, wat kleinere transistors oplevert. De High-NA-scanners bieden naast dit vernieuwde optische ontwerp ook flink verbeteringen in de snelheid van verschillende stappen, voor een hogere productie. In 2018 kocht Intel al de EXE:5000, het eerste High-NA euv-systeem van de Nederlandse fabrikant.
Martin van den Brink, president en cto van ASML: "Intel's visie en vroege toewijding aan ASML's High-NA EUV-technologie is het bewijs van hun onophoudelijke streven naar Moore's wet. Vergeleken met de huidige EUV-systemen levert onze innovatieve, uitgebreide EUV-roadmap voortdurend lithografische verbeteringen bij lagere complexiteit, kosten, cycle-tijden en energie, die de industrie nodig heeft om betaalbare schaalbaarheid mogelijk te maken tot ver in het volgende decennium."
Dr. Ann Kelleher, executive vicepresident en algemeen manager Technology Development van Intel: "Intel's focus is om aan het front van halfgeleiderlithografie-technologie te staan en het laatste jaar hebben we onze EUV-expertise en capaciteit opgebouwd. Door nauw met ASML samen te werken zullen we de hoge resolutie-patronen van High-NA EUV gebruiken als een van de manieren waarmee we Moore's wet vol kunnen houden en onze sterke geschiedenis van vooruitgang tot de kleinste afmetingen kunnen behouden."
Bron: Neowin
