Het Belgische onderzoeksinstituut Imec gaat samen met ASML werken aan het opzetten van een high numerical aperture (high-na)-euv-lithografielijn voor de ontwikkeling van sub-2nm-chips. Hiervoor gaat ASML zijn meest geavanceerde lithografie- en metrologieapparatuur verschaffen aan Imec, die daar vervolgens de 'proeflijn' mee gaat opzetten.
Volgens ASML is de pilotlijn van deze lithografietechnologie cruciaal voor de ontwikkeling van energie-efficiënte halfgeleiders die de vraag naar steeds forsere rekenkracht (onder meer voor AI-toepassingen) kunnen bijbenen, zonder dat dat ten koste gaat van de planeet. Het doel van beide bedrijven is om de technologie zo snel mogelijk klaar te stomen voor massaproductie.
Twee jaar geleden toonde Imec al een nieuwe transistortype dat in staat is om chips te bouwen op nodes die kleiner zijn dan 2nm. Deze zogenoemde forksheettransistors zouden moeten dienen als de opvolger van de gate-all-around (of gaa)-transistors, die op zijn buurt de finfet-transistors opvolgen.
Dit is overigens niet de eerste keer dat beide bedrijven samenwerken aan high-na-technologie. Ze hebben reeds een gezamenlijk high-na-lab opgezet, waar ze momenteel werken aan de eerste high-na-euv-scanner. High-na is een vorm van extreme ultraviolet lithography, die in staat is om euv-licht van een bredere hoek op de wafer te projecteren. Hierdoor kan om de resolutie van de halfgeleiders worden verhoogd en kunnen er nog kleinere kenmerken geprint worden.
Bron: ASML
