ASML zal voor het einde van dit jaar zijn eerste high-NA EUV-systeem leveren. In een interview met Reuters geeft ceo Peter Wennink aan dat het bedrijf vertraging heeft opgelopen vanwege kwaliteitsproblemen bij zijn leveranciers, maar zich desondanks aan de vooropgestelde planning zal kunnen houden.
Deze high numerical aperture EUV-apparaten maken gebruik van verbeterde optica, die kleinere structuren bij dezelfde golflengte mogelijk maakt. Dit betekent dat er weer enkele jaren geavanceerdere chips kunnen worden gemaakt zonder dat er complexe technieken zoals multi-patterning moeten worden ingezet.
Een high-NA EUV-chipmachine heeft ruwweg het formaat van een vrachtwagen en vereist een investering van minstens 300 miljoen euro. Het prototype dat binnen enkele maanden zal worden geleverd is naar verwachting de EXE:5000, die gericht is op productieproeven. De EXE:5200, die bedoeld is voor massaproductie, wordt pas in 2025 verwacht.
Intel heeft in het verleden aangegeven dat het de eerste partij is die een systeem met deze technologie in huis zal nemen. Andere grote bedrijven die ermee aan de slag zullen gaan zijn TSMC, Samsung, Micron en SK Hynix.
Bronnen: Reuters, ComputerBase
