Origineel bericht 17-10-2023, 15:02 –
Canon heeft met de FPA-1200NZ2C zijn nieuwste apparatuur uitgebracht die gericht is op de productie van geavanceerde chips. In tegenstelling tot de bekende fotolithografiesystemen van ASML maakt de oplossing van de Japanse fabrikant gebruik van nano-imprintlithografie. Momenteel moet het mogelijk zijn om chips te vervaardigen op een 5nm-achtig procedé, met verbeteringen in het vooruitzicht.
De FPA-1200NZ2C in zijn volle glorie.
Waar fotolithografie een lichtbron gebruikt om circuits te vormen op een met een resistlaag gecoate wafer, wordt bij nano-imprint het circuitpatroon rechtstreeks aangebracht met behulp van een soort stempel. Deze techniek heeft verschillende voordelen: enerzijds is het stroomverbruik “significant” lager vanwege het gebrek aan licht, daarnaast moet het mogelijk zijn om complexe twee- of driedimensionale patronen aan te brengen met slechts één imprint. Beide moeten bijdragen aan een lagere productieprijs.
Volgens Canon is NIL momenteel in staat om producten met een minimum lijnbreedte van 14 nm te maken, wat overeenkomt met 5nm-nodes zoals die van TSMC. Verder wordt verwacht dat de maskeertechnologie verder kan worden verfijnd om een lijnbreedte van 10 nm mogelijk te maken, ofwel 2nm-achtige processen. Wanneer dat het geval zal zijn, wordt echter niet vermeld.
Update 07-11-2023, 16:04 –
In een interview met Bloomberg heeft Canon-ceo Fujio Mitarai verklaard dat de prijs van de machines met nano-imprintlithografie één cijfer minder zal hebben dan de EUV-gebaseerde apparatuur van ASML. Deze hebben een prijskaartje van 200 of zelfs 300 miljoen euro (high-NA EUV). Afhankelijk van de interpretatie kan dit dus om een bereik van 20 à 30 miljoen euro gaan, ofwel een bedrag van maximaal 99 miljoen euro. Dit is in ieder geval aanzienlijk goedkoper dan zijn Nederlandse concurrent. Verder voegt Mitarai toe dat de prijs nog niet definitief bepaald is.
